据最新消息,苹果公司已成功申请到一项屏下Face ID技术专利,这标志着其在屏下摄像头技术领域取得了突破。
屏下Face ID技术的关键难点在于提升红外光的透光率。尽管红外光可以穿透显示屏,但其透射效率非常低,如果直接在屏幕下方放置摄像头,将导致人脸识别速度下降,并可能影响安全性。
苹果的新专利通过独特的设计,移除部分子像素,使得红外光能够更加顺畅地通过屏幕盖板,从而实现了高效的屏下人脸识别功能。
据悉,这项技术预计将在2026年发布的iPhone 18系列中首次应用。届时,iPhone可能会采用单挖孔屏设计,完全摒弃现有的药丸屏设计,为用户带来更为纯粹的全面屏体验。
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